芯片行业龙虎斗,三星也成功攻克7纳米制程,即将量产!
发表于2018-06-17 17:05:04

  原标题:芯片行业龙虎斗,三星也成功攻克7纳米制程,即将量产!

  在芯片代工市场中,台积电与三星的竞争可谓是龙虎斗。由于在7纳米制程节点上,高通预计会选择台积电,三星明显感受到压力,已经着手从工艺技术上进行弯道超车。

  如今,三星终于公布了他的 7 纳米 LPP 制程已经完成了新斯科技(Synopsys)的物理认证,意味着7纳米EUV制程将可以进行全球量产了。

  目前,英特尔的10纳米制程还没搞定,距离7纳米制程就更遥远了。台积电的7纳米制程量产比较顺利,会有苹果、海思、高通、NVIDIA、AMD 等客户陆续流片、量产。

  不过,台积电并不追求EUV极紫外光微影技术,而是坚持延续193nm液浸式光刻技术。台积电计划到5纳米结点才真正过渡到EUV技术,所以起码还有到2019年年底才可能部署。

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  前段时间,台积电透露联发科正与其密切合作7纳米的12核处理器,表示7纳米正在量产认证,接下来两个季度进行试产,2018年便可实现量产。

  格罗方德方面也走台积电相似的路线,预计2018年量产的7纳米DUV制程还是传统的深紫外光刻技术。对此,号称频率可达5GHz的AMD 7纳米Zen 2处理器就会使用格罗方德的 7 纳米制程技术,这需要等到2020年了。

  目前在 EUV 光刻技术竞争激烈下,各家大厂抢 EUV 光刻机也成为重要经营项目之一。根据之前的消息,ASML 的 EUV 光刻机中,台积电订购了大约 10 台,三星订购了大约 6 台,英特尔订购了3台。

  值得高兴的是,中芯国际也订购了1台EUV光刻机,目前已经成功攻克14纳米制程,未来将用于 7 纳米制程技术研究上。

  随着制程技术的演进,遇到的挑战与困难只会多不会少,并且制程节点已进入到10纳米以下,快要接触到物理极限,所以除了线宽微缩外,改变元件结构或是使用新的材料等选项,已是一条不可不走的路。

  集成电路被誉为电子信息产业“皇冠上的明珠”,是一个国家电子信息产业的基石。在“中国制造2025”等政策利好,以及光电新技术的推动下,中国集成电路产业备受关注,迎来前所未有的发展机遇。

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